乾膜光阻

清洗劑

產品特色

  • 水性配方,有效去除硬化光阻,使其剝離,清洗容易不殘留。
  • 預防殘膜回沾產生二次污染,有效提升製程良率。
  • 溶解光阻,不產生碎片,減少廢水過濾的處理流程。
  • 配方不含氫氧化納、氫氧化鉀,取代傳統鹼洗。
  • 對於絕大部分材質無腐蝕性。
  • 不傷害金屬鍍膜層、不影響元件特性。
  • 無閃火點,並可被生物分解,是長期可信賴且符合環保清洗劑。

應用範圍

  • 印刷電路板
  • 半導體先進封裝
  • 被動元件
  • 資訊通訊產業
  • 車用電子產業

來料測試清洗

清洗製程

關鍵引導

階段一:評估

來電或面談洽詢討論被洗物的材質、汙染物類型、乾淨度標準、清洗設備條件、前後製程影響...等條件進行評估。

階段二:樣品測試清洗

確認各項條件後,由我們專業判斷清洗劑的挑選,進行樣品實際測試,找出最佳清洗條件、參數與流程,出具測試報告。

階段三:實際測試

提供樣品給客戶進行小批量測試。

階段四:合作開發

當測試結果未達預期目標、雙方認為有必要由本公司進行新的清洗劑與條件的開發,可簽屬開發意願,共同開發。

降低成本,增加產能,以水性清洗劑取代有機溶劑,你我都為環保及員工的健康盡一份心力。