光阻清洗剂
水基型环保光阻清洗剂
柏连专为半导体、电子製造和印刷电路板行业而开发的环保水性光阻清洗剂。其独特的配方能高效、安全地去除光阻及汙染物，用以取代液硷与其他挥发性之溶剂，减少对环境的不良影响，并提升製程效率。
溶剂型光阻清洗剂
柏连独有的配方能够迅速溶解和去除硬化光阻、汙染物，从而确保电子元件和器件的高品质和性能稳定性。
产品特色(水基型)
● 水性环保，符合RoHS、SVHCs
无NMP, DMSO, TMAH
● 相容各种材质
对大部分金属无腐蚀性，对多數金属如金、银、铜、铝…均无影响，且能与清洗设备相容使用。
● 药剂不残留
纯水润洗后不残留，不影响往后加工。
● 取代溶剂，节省药剂成本
替代NMP、溴丙浣nPB、丙酮ACE、异丙醇IPA、二氯乙烯、碳氢溶剂...等多数溶剂。
● 客製化配方
若现有产品无法满足製程需要，则可客製化配方，共同研发合适洗剂。
产品特色(溶剂型)
● 清洗力强，高渗透性
快速有效的清洗效率。
● 药剂不残留
纯水润洗后不残留，不影响往后加工。
● 客製化配方
若现有产品无法满足製程需要，则可客製化配方，共同研发合适洗剂。
产品应用
● 半导体材料
黄光製程正负光阻清洗、高阶封装用的乾膜光阻清洗。LED、硅晶圆、砷化镓、蓝宝石、碳化硅...等基板清洗
● 印刷电路板
● ABF载板
● 精密电子零组件
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可清洗汙染物
● 正光阻
● 负光阻
● 乾膜光阻
● 各式树酯
环氧树脂、压克力树脂、PVC树脂
● 银胶
● 油墨
● 残胶
● 氧化物汙染
兼容材料
● 金、银、铜、铝
对多数金属不腐蚀
● 玻璃、石英、蓝宝石
● 多数半导体材料
砷化镓、碳化硅
● 複合材料
*实际材料的兼容性应在特定清洗条件下进行测试才能确认。
使用建议
● 稀释: 不可稀释
● 清洗温度: 60℃-90℃
● 酸硷性: 中性、硷性
● 包装大小: 5加仑、55加仑
清洗实例
清洗前
清洗后
清洗前
清洗后
提升乾淨度，降低不良率
柏连光阻清洗剂拥有卓越的清洁性能、环境友好的特点以及良好的材料相容性，使其成为提升製程效率、确保产品质量的理想选择。
来料测试清洗
清洗製程
关键引导
阶段一：评估
来电或面谈洽询讨论被洗物的材质、汙染物类型、乾淨度标准、清洗设备条件、前后製程影响...等条件进行评估。
阶段二：样品测试清洗
确认各项条件后,由我们专业判断清洗剂的挑选,进行样品实际测试,找出最佳清洗条件、参数与流程,出具测试报告。
阶段三：实际测试
提供样品给客户进行小批量测试。
阶段四：合作开发
当测试结果未达预期目标、双方认为有必要由本公司进行客製化清洗剂与条件的开发，可签属开发意愿，共同开发。
专业谘询
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