去蠟液
工業用精密清洗
環保水性去蠟液，能高效去蠟、油汙、殘膠、落塵、研磨劑、氧化物…等污染物，用以取代丙酮、IPA等高揮發性溶劑。p.H.中性，不腐蝕基材與金屬，藥水壽命長，能降低生產成本，提升良率。
產品特色
● 水性環保，符合RoHS、SVHCs
環保無公害，健康不妨礙，無破壞臭氧層物質，不含丁烷基(Butyl)及石油系溶劑，並可被生物分解。
● 清洗力強，高滲透性
快速有效的清洗效率。
● 相容各種材質
對大部分金屬無腐蝕性，對多數金屬如金、銀、銅、鋁…均無影響，且能與清洗設備相容使用。
● 水性可稀釋
可稀釋使用，降低使用成本。
● 藥劑好洗不殘留
潤洗後不殘留，不影響往後加工。
● 取代溶劑，節省成本
替代NMP、溴丙浣nPB、丙酮ACE、異丙醇IPA、二氯乙烯、碳氫溶劑...等溶劑。縮短製程並減少繁複的溶劑處理，使製程要藥劑單純化。
● 客製化配方
若現有產品無法滿足製程需要，則可客製化配方，共同開發合適洗劑。
產品應用
● 光電半導體材料
LED、矽晶圓、砷化鎵、藍寶石、碳化矽...等基板清洗(substrate)，磊晶外延片清洗(wafer)，晶粒芯片加工清洗(chip)。用於芯片背面減薄、拋光後的下蠟清洗工序。
● 精密電子零組件
● 光學玻璃元件
拋光前清洗、固定用蠟清洗、拋光土清洗
● 金屬加工件
拋光前清洗、固定用蠟清洗、拋光土清洗
可清洗汙染物
● 蠟
適用於固態蠟、液態蠟...等各式蠟種
● 松香
● 油汙
● 殘膠
● 落塵
● 研磨拋光劑
兼容材料
● 金、銀、銅、鋁、鉻、鈦
對多數金屬不腐蝕
● 玻璃、石英、藍寶石、砷化鎵、藍寶石、碳化矽
● 多數化合物半導體材料
● 複合材料
*實際材料的兼容性應在特定清洗條件下進行測試才能確認。
使用建議
● 清洗方式: 超音波、浸洗
● 稀釋: 使用去離子水稀釋
● 清洗溫度: 60℃-90℃
● 酸鹼性: 中性、酸性、鹼性
● 包裝大小: 5加侖、55加侖
清洗實例
清洗前
清洗後
清洗前
清洗後
清洗前
清洗後
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大廠認證選用
熟悉產業製程，提升乾淨度，降低不良率。
來料測試清洗
清洗製程
關鍵引導
階段一：評估
來電或面談洽詢討論被洗物的材質、汙染物類型、乾淨度標準、清洗設備條件、前後製程影響...等條件進行評估。
階段二：樣品測試清洗
確認各項條件後,由我們專業判斷清洗劑的挑選,進行樣品實際測試,找出最佳清洗條件、參數與流程,出具測試報告。
階段三：實際測試
提供樣品給客戶進行小批量測試。
階段四：合作開發
當測試結果未達預期目標、雙方認為有必要由本公司進行客製化清洗劑與條件的開發，可簽屬開發意願，共同開發。
專業諮詢
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