光阻清洗劑
水基型環保光阻清洗劑
柏連專為半導體、電子製造和印刷電路板行業而開發的環保水性光阻清洗劑。其獨特的配方能高效、安全地去除光阻及污染物，用以取代液鹼與其他揮發性之溶劑，減少對環境的不良影響，並提升製程效率。
溶劑型光阻清洗劑
柏連獨有的配方能夠迅速溶解和去除硬化光阻、污染物，從而確保電子元件和器件的高品質和性能穩定性。
產品特色(水基型)
● 水性環保，符合RoHS、SVHCs
無NMP, DMSO, TMAH
● 相容各種材質
對大部分金屬無腐蝕性，對多數金屬如金、銀、銅、鋁…均無影響，且能與清洗設備相容使用。
● 藥劑不殘留
純水潤洗後不殘留，不影響往後加工。
● 取代溶劑，節省藥劑成本
替代NMP、溴丙浣nPB、丙酮ACE、異丙醇IPA、二氯乙烯、碳氫溶劑...等多數溶劑。
● 客製化配方
若現有產品無法滿足製程需要，則可客製化配方，共同研發合適洗劑。
產品特色(溶劑型)
● 清洗力強，高滲透性
快速有效的清洗效率。
● 藥劑不殘留
純水潤洗後不殘留，不影響往後加工。
● 客製化配方
若現有產品無法滿足製程需要，則可客製化配方，共同研發合適洗劑。
產品應用
● 半導體材料
黃光製程正負光阻清洗、高階封裝用的乾膜光阻清洗。LED、矽晶圓、砷化鎵、藍寶石、碳化矽...等基板清洗
● 印刷電路板
● ABF載板
● 精密電子零組件
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可清洗汙染物
● 正光組
● 負光阻
● 乾膜光阻
● 各式樹酯
環氧樹脂、壓克力樹脂、PVC樹脂
● 銀膠
● 油墨
● 殘膠
● 氧化物汙染
兼容材料
● 金、銀、銅、鋁
對多數金屬不腐蝕
● 玻璃、石英、藍寶石
● 多數半導體材料
砷化鎵、碳化矽
● 複合材料
*實際材料的兼容性應在特定清洗條件下進行測試才能確認。
使用建議
● 稀釋: 不可稀釋
● 清洗溫度: 60℃-90℃
● 酸鹼性: 中性、鹼性
● 包裝大小: 5加侖、55加侖
清洗實例
清洗前
清洗後
清洗前
清洗後
提升乾淨度，降低不良率
柏連光阻清洗劑擁有卓越的清潔性能、環境友好的特點以及良好的材料相容性，使其成為提升製程效率、確保產品質量的理想選擇。
來料測試清洗
清洗製程
關鍵引導
階段一：評估
來電或面談洽詢討論被洗物的材質、汙染物類型、乾淨度標準、清洗設備條件、前後製程影響...等條件進行評估。
階段二：樣品測試清洗
確認各項條件後,由我們專業判斷清洗劑的挑選,進行樣品實際測試,找出最佳清洗條件、參數與流程,出具測試報告。
階段三：實際測試
提供樣品給客戶進行小批量測試。
階段四：合作開發
當測試結果未達預期目標、雙方認為有必要由本公司進行客製化清洗劑與條件的開發，可簽屬開發意願，共同開發。
專業諮詢
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